日本分析化学会第75回分析化学討論会
04. X線分析,電子分光分析

A会場  第2日  5月24日(日)  13:10~13:55

座長:山本孝

A2009   5/24   13:10~13:25     

全反射蛍光X線分析における試料作製位置と検出感度の依存性に関する研究

○田渕 由莉 ・ 辻 幸一
阪市大院工

A2010   5/24   13:25~13:40     

共焦点型三次元蛍光X線分析法による水溶液中塗膜鋼板の腐食挙動その場観察

○陳 自義1 ・ 秋岡 幸司2 ・ 荒井 正浩2 ・ 土井 教史2 ・ 辻 幸一1
阪市大院工1 ・ 新日鉄住金(株) 技術開発本部2

A2011   5/24   13:40~13:55     

陽電子消滅法による水素脆化純鉄の空孔型欠陥挙動

○藤浪 眞紀1 ・ 小泉 一輝1 ・ 川口 満梨奈1 ・ 山脇 正人2 ・ 伊藤 賢志2 ・ 高井 健一3
千葉大院工1 ・ 産総研2 ・ 上智大理工3