11:質量分析
H会場  第3日  9月19日(金)  09:20~11:00
座長:角田 欣一

H3001   9/19   09:20~09:35  

各種ガスを用いた表面付着物プラズマ質量分析装置の分析特性評価

○岩井 貴弘1掛川 賢1相田 真里1長島 央行2名児耶 友樹2金森 美江子2宮原 秀一1瀬戸 康雄2沖野 晃俊1
東工大院創エネ1科警研2

H3002   9/19   09:35~09:50  

高真空プラズマイオン源への液体試料導入系の開発

○卜部 達也木寺 正憲
理研

H3003   9/19   09:50~10:05  

ソフトプラズマイオン源による揮発性有機化合物のフラグメンテーション抑制への試み

○布目 陽子1朴 賢國2児玉 憲治3植木 保昭4義家 亮5北川 邦行4成瀬 一郎4Sang Chun Lee6我妻 和明7
阪大院工1韓国ETRI2リガク3名大エコ4名大院工5韓国慶南大6東北大金研7

座長:中の 三弥子

H3004   9/19   10:15~10:30  

共鳴多光子イオン化スパッタ中性粒子質量分析法を用いたCr/Ni多層膜に対する深さ方向分析の定量性の検討

○西野宮 卓1林 俊一2
新日鐵住金 先端研1日鉄住金テクノロジー2

H3005   9/19   10:30~10:45  

新しい原理を用いた質量分析器におけるイオン軌道シミュレーションとその評価

○穴井 勇希1堀田 昌直2足立 達哉3野島 雅1,4
東理大院理工1オフィスタンデム2アンペール3東理大総合研究機構4

H3006   9/19   10:45~11:00  

CSI-MS法による配位子比依存錯形成状態の溶液化学的議論の可能性

○小原 一朗山口 健太郎
徳島文理大香薬

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