[Kigen-unei 00072] Re: 【返信】Re: Re: 第25回講演会

2021年 3月 29日 (月) 13:09:27 JST

安井様

 
すいません先ほどのメール「講演会だけ」⇒「講演者だけ」の間違えです。

今のところ、対面では考えていません。改善する見通しもありませんし、今の状況だとできません。講演予定者も了解して頂けないと思います。

 
有山

 
From: 安井明美 <ztb10233 ＠ nifty.com> 
Sent: Monday, March 29, 2021 12:18 PM
To: kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp; kigen-unei ＠ jsac.jp
Subject: 【返信】Re: [Kigen-unei 00070] Re: 第25回講演会

 
有山　様

　安井です。第25回講演会のご提案ありがとうございました。

会場の電機大の都合によると思いますが、対面とリモートの両方を考慮することになるでしょうか。

よろしくお願いいたします。

－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－

On 2021/03/29 12:03, kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp <mailto:kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp>  wrote:

表示・起源分析技術研究懇談会

運営委員の皆様

 
特に異論等はないようですので、進めさせていただきます。

 
以下の点についてご意見ありましたら是非お知らせください。

 
１．先日の講演会では山口様の講演で通信障害がありました。講演会だけ集まってもらった方がトラブルが起こりにくいので、集まれる人だけでもそのようにした方が良いかな？とも思います。

 
２．今回は非会員は参加費1500円にしようと思います。お金を払って会員になってもらうメリットがないからです。予算的には余裕があると思いますが、収入がないのも良くないと思います。

　ただ、受付でのチェックが面倒かな？無料の方が人が集まるのは間違いありません。ご意見有りましたらお願いします。

 
皆様にもご協力お願いすると思います。特に保倉先生と社籐様、いろいろお尋ねしたり当日の受付などお願いするかと思いますが、よろしくお願いします。

 
有山

From: Kigen-unei  <mailto:kigen-unei-bounces ＠ jsac.jp> <kigen-unei-bounces ＠ jsac.jp> On Behalf Of kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp <mailto:kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp> 
Sent: Thursday, March 25, 2021 1:48 PM
To: '表示起源運営委員'  <mailto:kigen-unei ＠ jsac.jp> <kigen-unei ＠ jsac.jp>
Subject: [Kigen-unei 00069] 第25回講演会

 
表示・起源分析技術研究懇談会

運営委員の皆様

 
先日の第24回講演会、担当された方々お疲れさまでした。皆様のご協力のおかけで無事終了してとても嬉しく思います。

 
次の第25回講演会は私から提案します。オンラインで下記のように考えています。オンラインに詳しい阿部先生に実行委員としてお力添えを頂き、開催したいと思います。

 
表示起源分析技術研究懇談会　第25回講演会（案）

気体中の金属分析から起源に迫る

気体中の金属分析に焦点を当て、大気環境研究のような学術面から品質管理のような産業面まで幅広い方面から起源分析に迫ります。　

気体中の金属を直接リアルタイムで分析する技術は以前から求められてきましたが、これら金属をppq（10-15）レベルで測定することができる装置が実用段階に入ってきました。単なる気体分析の枠を超えて、半導体産業における金属汚染の監視や大気圧中の試料のレーザーアブレーション測定など様々な方面への応用が期待されています。起源を特定する手段としても利用され、興味深い成果が得られていることから、これについては基礎から応用面まで紹介してもらいます。

オンラインではありますが、質疑応答の時間を取って活発に議論できる場を提供したいと思いますので、皆様のご参加をお待ちしております。

主催：公益社団法人　日本分析化学会・表示起源分析技術研究懇談会

日時：2021年9 or 10月

場所：オンライン

参加費（要旨代含む）：会員　無料、非会員　1500円

 
大気中の水銀や放射性元素の分析からその出所を推定したり、たばこの副流煙の元素パターンから銘柄を当てるなど面白い研究がされています。

また、最近では半導体の需要が非常に高まっており、その検査装置の需要も高まっています。ICPMS取り分けトリプル四重極などの最先端の装置は半導体メーカーが最大のユーザーです。品質管理で使用していますが、品質管理も起源分析の範囲に入りますので、この話題も盛り込む予定です。日本の主要な産業である製造業における分析化学の利用は品質管理がメインですが、学会ではそちら方面への取り組みが非常に手薄です。こうした現状に即した活動ができれば、学会の会員数減少に歯止めをかける助けになると思います。情報が欲しいけど得られる場がないのが現状ですので、こちら関連の活動を充実させることで会員数の増加や活動の活性化が期待できます。この講演会ではごく一部のみになりますが、今後の礎になればと思っています。

 
特に異論などがなければ進めたいと思いますので、もしありましたらお知らせください。

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  有山　薫 

  博士（農学）／ラボプロダクトスペシャリスト 

  株式会社イアス 

  〒190-0022東京都立川市錦町3-6-6中村LKビル4階 

 Tel：042-548-0765／Fax：050-3153-7645 

 Email： <mailto:kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp> kaoru.ariyama ＠ iasinc.jp

 
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農業･食品産業技術総合研究機構 食品研究部門
アドバイザー
 
  安井明美
 
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E-mail: ztb10233 ＠ nifty.com <mailto:ztb10233 ＠ nifty.com> 
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